电子信息领域监督评估实地调研浸没式光刻机光学系统产品情况
日期：2017年08月11日
来源：国家科技部评估中心
根据2017年国家科技重大专项组织实施推进会要求和重大专项2017年度总体工作安排，科技部、发展改革委、财政部三部门于2017年6月开始，组织监督评估专家组对民口10个重大专项实施情况进行监督评估。2017年重大专项监督评估，由科技部科技评估中心具体组织实施。
7月12-13日，电子信息领域专项监督评估组赴上海进行实地调研，监督评估组组长马俊如研究员及其他专家，科技部重大专项办公室李伟副调研员，电子信息领域3个专项实施管理办公室、总体专家组有关专家等相关人员参加调研座谈。
监督评估组首先前往上海微电子装备公司，现场考察了90nm国产光刻机的测试验证情况和28nm节点浸没式光刻机的研发进展，并就如何加快光刻机研发和产业化进度等议题与项目承担单位进行了交流研讨，围绕精细化管理、产业化推进、明确用户需求与人才团队建设等提出了意见建议。
监督评估组随后赴中芯国际集成电路制造（上海）有限公司，对14nm成套工艺课题研发进展进行调研。中芯国际课题负责人重点汇报了14nmFinFET技术研发计划、工艺和产品平台研发进展、产学研合作情况、国产设备材料验证、人才队伍建设，以及资金到位与使用情况。监督评估组就如何统筹资源加快研发进度等议题与课题承担单位进行了交流研讨。专家们提出，14nm工艺攻关需强化顶层设计，集中资源，同时要注意把握技术攻关与企业扩产之间的平衡。
监督评估组最后前往新昇半导体科技有限公司，考察了大硅片生产线，听取了项目进展情况汇报，并就突破300mm硅片规模生产技术瓶颈、加快产品研发与产业化等议题与项目承担单位进行了交流研讨。监督评估组基于现阶段产业发展情况，分析了项目所面临的关键瓶颈问题及其主要原因，提出了强化顶层设计、商业计划和技术路径的意见建议，希望项目承担单位充分利用现有人才队伍与各项资源，确保按计划节点顺利推进。
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